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電子級超純水應用于太陽能多晶硅行業

發布日期:2014-01-13 點擊次數:248

多晶硅清洗用超純水處理設備關鍵技術EDI技術與反滲透技術的有機結合,達到連續除鹽、運行維護簡單、無酸堿排放污染。多晶硅片,半導體器件等清洗過程中所需的純水需要符合國家《電子級水質標準》18.2兆歐以上,目前最有效的制水工藝就是預處理加反滲透加EDI技術工藝。超純水處理設備已被多晶硅清洗行業廣泛應用。

典型工藝:

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